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预处理系统

  

                                                  预处理系统                                                     PLC控制盘

 

 1)预处理系统设计与选用的主要依据

l         采用分析仪的设备或流程系统的工艺过程及其特点,分析仪在该工艺流程中的作用

l         取样点的位置、环境?#32431;?#20197;及取样点周围样品的分布状态及物理化学参数

l         被测组分的平均含量,以及可能出?#20540;?#26368;高与最低含量,工艺过程中的变化频率

l         非测量组分的平均含量及其在工艺过程中的变化范围,考虑消除措施及抗干扰措施

l         样?#20998;?#30340;水含量,对大多数气体分析仪具有干扰作用,应采取相应措施加以限制或消除

l         样品压力或压差及其波动范围,多数分析仪对样品压力及流量比较敏感,需要一定的稳压稳流措施

l         样品?#38706;?#21464;化范围及其平均值,以便选择合理的取样?#37237;方?#26500;及核算其使用寿命,同?#20445;?#32771;虑分析仪是否采用?#38706;炔?#20607;措施

l         样?#20998;?#26426;械杂质及其含量?#25442;页?#21547;量是设计取样?#37237;?#21450;过滤器的重要依据,根据?#39029;?#24179;均含量,核算过滤器更换或维护的周期?#25442;页?#39063;粒尺寸变化较大?#20445;?#37319;用不同的多种过滤方式

l         样?#20998;?#33104;蚀性物质的平均含量及可能的最高含量,与选择取样系统的材料、分析仪类型、过滤方式等有关

l         取样点样品含量发生变化到分析仪稳定所允许的时间(响应时间),需要考虑响应时间是否能满足工艺生产的要求,否则,要从仪器选型、取样点、分析仪安装位置考虑尽量使距离缩短

l         分析仪及取样系统安装地点的安全防爆?#29123;叮?#20197;及是否需要PLC全自动控制采样,也是取样系统选型的重要依据;

2)预处理系统对样品进行处理后的要求

目的在于改善样品的物理、化学特性,适应分析仪的正常工作,要求如下:

l         样?#20998;謝页?#21644;机械杂质?#35805;?#19981;超过0.01g/m3

l         样?#20998;?#27700;蒸汽必须排除,?#35805;?#21547;水量不超过0.5g/m3

l         样?#20998;?#33104;蚀性杂质,如硫化氢、氨等,?#35805;?#19981;超过0.01g/m3

l         样品?#38706;紉话?#19981;超过40,最好是室温

l         进入分析仪的压力尽量接近大气压,以简化分析仪的设计要求

l         控制样品流量,大多数分析仪所需流量为0.2~1L/min,?#20057;?#27714;流量保持稳定

l         消除或减少样?#20998;?#23545;分析仪有干扰作用的组分,但应避免改变待测组分的含量

 

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